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            “超分辩光刻配备项目”经过国家验收 可加工22纳米芯片

            admin 2019-07-07 258人围观 ,发现0个评论

              新华社成都11月29日电(记者董瑞丰、吴晓颖)国家严重科研配备研制项目“超分辩光刻配备研制”29日经过检验。该光刻机由中国科学院光电技能研讨所研制,光刻分辩力到达22纳米,结合两层曝光技能后,未来还可用于制作10纳米级其他芯片。

              中科院理化技能研讨所许祖彦院士等检验组专家共同表明,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辩力到达22纳米。项目在原理上打破分辩力衍射极限,建立了一条高分辩、大面积的纳米光刻配备研制新道路,绕过国外相关知识产权壁垒。

              光刻机是制作芯片的中心配备,我国在这一范畴长时间落后。它选用相似相片冲印的技能,把母版上的精密图形经过曝光转移至硅片上,一般来说,光刻分辩力越高,加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技能因为遭到光学衍射效应的影响“超分辩光刻配备项目”经过国家验收 可加工22纳米芯片,分辩力进一步进步遭到很大约束。

              为取得更高分辩力,传统上选用缩短光波、添加成像体系数值孔径等技能途径来改善光刻机,但技能难度极高,配备本钱也极高。

              项“超分辩光刻配备项目”经过国家验收 可加工22纳米芯片目副总设计师胡松介绍,中科院光电所此次经过检验的外表等离子体超分“超分辩光刻配备项目”经过国家验收 可加工22纳米芯片辩光刻配备,打破了传世界之窗浏览器统道路格式,构成一条全新的纳米光学光刻技能道路,具有彻底自“超分辩光刻配备项目”经过国家验收 可加工22纳米芯片主知识产权,为超资料/超外表、第三代光学器材、广义芯片等革新性范畴的跨越式开展供给了制作东西。

              据了解,这种超分辩光刻配备制作的相关器材已在中国航天“超分辩光刻配备项目”经过国家验收 可加工22纳米芯片科技集团公司第八研讨院、电子科技大学、四川大学华西医院、中科院微体系所等多家科研院所和高校的严重研讨使命中得到使用。

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